工業設備的表麵和管道容易受到物理、化學或生物汙垢的影響。工業生產過程中產生的汙染物或覆蓋層可通過清洗技術去除，恢複原表麵。工業清洗技術原則上可分為物理清洗、化學清洗和微生物清洗。
物理清洗技術是指利用聲學、光學、電學、熱學借助機械摩擦、超聲波、負壓、高壓、衝擊、紫外線、蒸汽等外部能量去除物體表麵汙垢的方法。一般物理清洗技術，包括高壓噴射清洗、激光清洗、超聲波清洗等。
物理清洗技術
高壓噴射清洗技術可在空間狹小複雜、操作環境差的情況下進行清洗。關鍵是在實際應用環節保留反應塔、器皿、管道、換熱器等設備，產生一些無法清洗的附件、汙垢、水垢、油汙等；激光清洗技術沒有機械接觸，不會有損壞問題，不需要使用化學物質，不會造成化學腐蝕，主要用於模具內線路除膠、古建築和石材文物除塵、船板表麵除鏽、飛機金屬蒙皮和複合材料部件除漆、高速鐵路表麵除漆；超聲波清洗技術精度高、速度快、效果好、汙染小、無不良副產品，主要用於清洗表麵形狀複雜、含有細孔和間隙的工件，如醫療機械清洗、表麵噴塗處理等。
化學清洗技術是指利用化學變化的作用，利用化學品或其他溶劑去除物體表麵汙垢的方法。這種方法通常是先用清洗劑浸泡和滲透汙垢，使清洗劑成分中的親水基定向排列在外圍，親油基吸附在油漬上，浸潤不易碰到水的油漬，使吸附在油漬上的清洗劑逐漸膨潤，如圖2所示。由於汙垢分散在清洗液中，用水衝洗可以衝走汙垢，達到去汙的效果。
化學清洗原理
化學清洗劑在化學清洗技術中很常見。根據化學清洗劑，pH值劃分，化學清洗劑可分為偏堿清洗劑和酸性清洗劑。偏堿清洗劑的重要成分包括表麵活性劑、氫氧化鉀、氫氧化鈉等，對清洗部分油脂汙垢和酸性汙垢有很好的效果，主要用於光學玻璃清洗劑。偏堿清洗劑還可用於清洗高粘度油酯、機械表麵汙垢、半導體等精密工件，如切割、研磨、壓力等。酸性清洗劑中含有機物(檸檬酸、葡萄糖酸、酒石酸等。)、無機酸(硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸、磷酸)、表麵活性劑、螯合劑、脫硫劑等。，具有一定的殺菌除臭作用，可以溶解長期堆積的物質，如建築外牆清洗、建築清洗等。，也可以用醫院清洗刷子、塘瓷、瓷器等物品。
微生物清洗技術是指利用微生物對附著在設備上的汙垢進行分解，形成小分子的無毒可溶性物質的方法。這種方法主要通過釋放微生物到清潔劑中並存活下來。微生物代謝酶可以破壞汙垢中碳氫化合物的分子鍵，使汙垢分子分解並與清潔劑一起排出。微生物清洗技術成本低、安全環保、無腐蝕性實驗儀器，可提高清洗劑的清洗特性，廣泛應用於石化廠、食品廠、機械廠零部件清洗、地下水處理等領域。
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