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新聞資訊 | 2022-08-24

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薄膜的激光損傷與薄膜的微缺陷密切相關。微缺陷是薄膜激光損傷的主要原因。絕大多數激光損傷始於薄膜的缺陷點,並逐漸向外發展。因此,在係統的高通量運行中,光學元件表麵留下的雜質汙染物會產生雜質缺陷或塗層後節瘤缺陷,從而導致玻璃或塗層表麵的高拋光損傷,降低光學元件的損傷閥值。此外,光學元件表麵殘留的有機汙染物不僅表麵殘留的有機汙染物不僅能產生有機吸收和熱鏡片,降低損傷閥值,還能降低光學元件膜層的附著力。因此,有了神光-Ⅲ需要更高的通量,光學元件具有更高的激光損傷閥值,這就要求光學元件具有更高的清潔度。


因此,光學元件在加工過程中和塗塗層前進行清潔,以確保元件表麵的高清潔度,並提高元件的抗激光損傷能力。為了確保清潔方法在實際加工中的有效性,並確保清潔方法對光學元件具有高效的清潔能力,而不破壞光學元件。近年來,國內外發展了許多新的清潔技術,如機械清潔技術、冰清潔技術、激光清潔技術、超聲波和兆聲波清潔技術,其中在光學元件清潔行業,超聲波清潔技術作為一種高效、高清潔的清潔方法開始逐漸取代手動清潔。


超聲波清洗應在特殊的午夜精品福利一区二区蜜股AV中進行。午夜精品福利一区二区蜜股AV的獨特優點是,它就像一把精致的小刷子,穿刺力強,夾在手無法觸及的小洞穴和角落區域的汙垢中。在清洗液中,超聲波振動形成的空化作用迅速鬆動脫落。超聲波清洗是將工件懸掛在裝有清洗液的清洗槽中,根據超聲波換能器將超聲波產生器發出的電信號轉化為超聲波振動,引入液體,使汙漬在超聲波作用下脫落,達到清洗的目的。


根據光學元件表麵汙染物的物理特性,汙染物可分為有機物、複合物和無機物。


超聲波清洗效果與清洗液的溫度和濃度、清洗頻率、超聲波功率等工藝參數密切相關。超聲波頻率與待清洗汙染物顆粒的大小直接相關:超聲波頻率越小,腐蝕氣泡越多,清洗汙染物顆粒越多,超聲波頻率越大,清洗汙染物顆粒越小。


光學元件超聲清洗規定去除超過1μm必須使用超過170種無機汙染物顆粒KHZ隻有當頻率達到潔淨度規定時。因此,選擇頻率為40、80、120、140、170、220、270KHz複頻多槽(清洗槽、噴淋槽、浸洗槽、幹燥槽)午夜精品福利一区二区蜜股AV清洗光學元件。

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